2023217-20日,由余家国(欧洲科学院院士)发起,中国地质大学(武汉)、淮北师范大学、长沙学院和吉林化工学院联合主办的“第五届华人光催化材料学术研讨会(CSPM5)”在武汉晴川假日酒店召开。会议旨在为光催化领域海内外专家提供一个高水平的成果交流和展示平台。

会中与余家国院士(左一)合影留念

  

公司高分子材料系施伟龙副教授参加了此次学术研讨会,并受邀发表以“改性氮化碳S型光侧化体系的开发与应用”为题的摘要论文。会议期间还与国内外专家进行交流与讨论,针对氮化碳基异质结光催化剂的改性设计与性能研究,提出了新的见解,同时对本领域的关键科学问题进行了深入探讨。